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　　2017年10月12日-13日，首屆國際先進(jìn)光刻技術(shù)研討會在北京國際會議中心舉行，由集成電路產(chǎn)業(yè)技術(shù)創(chuàng)新戰(zhàn)略聯(lián)盟主辦，中國科學(xué)院微電子研究所承辦，中芯國際（SMIC）、長江存儲（YMTC）、華虹集團(tuán)、 Mentor、ASML、KLA Tencor、 南大光電（Nata）、上海微電子裝備（集團(tuán)）股份有限公司（SMEE）、Synopsys、Toppan、JSR、東方晶源、瀋陽芯源贊助。 會議共有200餘人參會，分別來自中國、美國、德國、日本等世界各地眾多名企、廠商、科研機(jī)構(gòu)、高校等。 我公司董事秦怡生、副總經(jīng)理楊建國參加了本次研討會。

　　大會主席、集成電路產(chǎn)業(yè)技術(shù)創(chuàng)新戰(zhàn)略聯(lián)盟理事長、科技部原副部長曹健林，國家外專局原局長馬俊如，科技部重大專項辦副巡視員、02專項實施管理辦公室副主任邱鋼先後為大會致開幕詞，大會副主席、中科院微電子研究所所長葉甜春就當(dāng)前行業(yè)趨勢做了分析報告，大會秘書長、中科院微電子研究所計算光刻研發(fā)中心主任韋亞一研究員主持開幕式。 按照大會安排，在這兩天的時間裏，來自Intel、IBM、Qualcomm（高通）、AMD、ASML、SMIC等公司的特邀嘉賓分別就擬定的主題做了特邀報告，深入分析了光刻領(lǐng)域先進(jìn)節(jié)點的科技手段和解決方案，內(nèi)容豐富，包含7nm及以下節(jié)點的計算光刻技術(shù)、 SMO、DTCO、EUV、DSA、Design rules、 光刻設(shè)備、資料等。 會後，參會嘉賓進(jìn)行合影留念。